Das Nachschlagewerk für das Weiterbildungsjahr 2010

managerSeminare Verlag 2010, 512 Seiten, gebunden, ISBN 978-3-936075-99-1, 49.90 Euro

Wie lässt sich der Transfererfolg von Weiterbildung nachhaltig steigern? Wie gelingt der Brückenschlag vom individuellen Lernen zum Change-Management?

Was kostet Weiterbildung und wie kalkulieren Trainer ihre Preise? In Seminare 2010, dem etablierten Jahrbuch der Management-Weiterbildung, bringen bekannte Fachautoren die zentralen Weiterbildungstrends im Angesicht der Wirtschaftskrise auf den Punkt und liefern Entscheidungshilfen für Weiterbildungspraktiker.

Wie sehr den Weiterbildungsmarkt die aktuelle Wirtschaftssituation beschäftigt, zeigt die rege Beteiligung an der jährlichen Trendanalyse des Verlags managerSeminare. Insgesamt 720 Weiterbildungsanbieter und 96 Personalverantwortliche äußerten sich zu Auftragslage, Seminardauer, Themen und aktueller Branchensituation. Die zentralen Ergebnisse werden im Jahrbuch dargestellt und kommentiert, ergänzt um weitere Zahlen, Fakten und Studien, die die Arbeit von Weiterbildnern unmittelbar betreffen.

Darüber hinaus enthält die 21. Auflage des Jahrbuchs auch wieder die bekannten und aktualisierten Kapitel zum Who-is-who der Branche. Im Sinne des Best-practice-Gedankens werden jüngst prämierte Weiterbildungskonzepte mit innovativen und effektiven Weiterbildungsideen vorgestellt. Das Kapitel Produkte für PE und Training" bietet Marktübersichten zu Business-Planspielen und Programmen zur Persönlichkeitsanalyse. Abgerundet wird das Jahrbuch durch die Kapitel Infoquellen", das die wichtigsten Verbände, Institutionen und Netzwerke der Weiterbildungsbranche listet, sowie das Anbieterverzeichnis mit Kurzprofilen von 1.135 Weiterbildungsanbietern sortiert nach Postleitzahlen.

Quelle: managerSeminare

Literatur-Tipp

Silizium-Halbleitertechnologie

Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 100 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert.
 

Weiterlesen ...
Zum Anfang
DMC Firewall is developed by Dean Marshall Consultancy Ltd